高
高敦科技股份有限公司
1.7 億
累計得標金額
95
得標案數
2026
最近得標
高敦科技股份有限公司 在2015–2026 年間共得標 95 案，合計決標金額 1.7 億。
競爭力分析
102
投標次數
95
得標次數
93%
得標率
歷年得標（決標金額）
得標金額級距分布
得標分單位
最常得標的機關是 國立成功大學（15 案）
- 國立成功大學15 案 · 2,177 萬
- 台灣中油股份有限公司10 案 · 742 萬
- 9 案 · 3,760 萬
- 國立中山大學7 案 · 2,300 萬
- 國立臺灣大學7 案 · 929 萬
- 國立交通大學6 案 · 1,484 萬
- 行政院原子能委員會核能研究所6 案 · 1,813 萬
- 5 案 · 2,598 萬
- 私立元智大學4 案 · 69 萬
- 國立臺北科技大學3 案
- 國立中正大學2 案
- 私立長庚大學2 案 · 198 萬
得標紀錄
全部共 102 筆，第 1/4 頁
已決標 2026/06/09
磁控濺鍍系統1套 440 萬決標金額
已決標 2026/01/19
真空系統儀控教學模組採購案 143 萬決標金額
已決標 2025/12/22
高深寬比金屬薄膜濺鍍系統設備1套 1,100 萬決標金額
已決標 2025/11/25
射頻磁控濺鍍系統 178 萬決標金額
已決標 2025/10/02
ALD原子層化學氣相沉積系統一套 240 萬決標金額
已決標 2025/08/06
Sputter系統優化乙式 58 萬決標金額
已決標 2025/07/30
小尺寸桌上型原子層沉積生長系統 127 萬決標金額
已決標 2025/07/18
綠能所-太陽能電池真空製程設備之保養修護工作 263 萬決標金額
已決標 2024/12/13
教學用客製化高真空系統採購案 165 萬決標金額
已決標 2024/11/15
奈米級金屬氧化物薄膜共濺鍍熱處理系統設備1套 1,200 萬決標金額
已決標 2024/09/18
大面積高真空鍍膜設備 1,350 萬決標金額
已決標 2024/09/04
高真空有機熱蒸鍍系統一套 200 萬決標金額
已決標 2024/07/10
真空鍍膜儀器擴充系統 280 萬決標金額
已決標 2024/06/20
高真空濺鍍設備系統 237 萬決標金額
已決標 2024/06/19
教學類半導體設備與半導體製程設備採購案 2,290 萬決標金額
已決標 2024/04/11
蒸發器K Cell壹組 32 萬決標金額
已決標 2023/10/11
半導體學院真空廠務設備一批 1,000 萬決標金額
已決標 2023/09/06
真空艙系統(Vacuum Chamber)壹組 286 萬決標金額
已決標 2023/08/25
3吋磁控濺鍍槍模組 26 萬決標金額
已決標 2023/07/07
超高真空多功能濺鍍系統一套 2,500 萬決標金額
已決標 2023/06/06
射頻電漿電源產生器含自動阻抗匹配器壹組 41 萬決標金額
已決標 2023/05/26
高真空磁控濺鍍及共蒸鍍系統 490 萬決標金額
已決標 2023/05/24
高真空熱蒸鍍暨傳輸設備系統一套 380 萬決標金額
已決標 2023/05/18
綠能所-鈣鈦礦太陽能電池蒸鍍製程設備保養及修護工作 119 萬決標金額
已決標 2023/04/26
高真空8吋金屬濺鍍系統一套 已決標 2023/03/27
插板閥及氣體質量流量控制器 48 萬決標金額
已決標 2022/09/22
高真空濺鍍機系統擴充升級一式 已決標 2022/08/19
極限環境鋼構艙系統 已決標 2022/08/17
太空溫循環境測試艙壹套 480 萬決標金額
已決標 2022/07/20
微型真空環境模擬系統採購 1 / 4 下一頁 →