高真空磁控濺鍍及共蒸鍍系統
中央研究院辦理「高真空磁控濺鍍及共蒸鍍系統」已於 2023/05/25 決標，決標金額 4,895,000 元（約 490 萬），得標廠商為高敦科技股份有限公司。
決標結果
| 公告類型 | 決標公告 |
|---|---|
| 公告日期 | 2023/05/26 |
| 決標日期 | 2023/05/25 |
| 招標機關 | 中央研究院 |
| 標案編號 | 112001022 |
| 預算金額 | — |
| 底價金額 | 4,895,000 元 |
| 總決標金額 | 4,895,000 元（約 490 萬） |
| 投標家數 | 1 家（僅一家投標） |
投標廠商
| 廠商 | 結果 | 決標金額 |
|---|---|---|
| 高敦科技股份有限公司公司資料↗ | 得標 | 4,895,000 元 |
標案歷程（本案各階段公告）
- 2023/04/14 公開招標公告
- 2023/05/17 無法決標公告
- 2023/05/18 公開招標公告
- 2023/05/26 決標公告 4,895,000 元
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