高
高敦科技股份有限公司
1.7 億
累計得標金額
95
得標案數
2026
最近得標
高敦科技股份有限公司 在2015–2026 年間共得標 95 案，合計決標金額 1.7 億。
競爭力分析
102
投標次數
95
得標次數
93%
得標率
歷年得標（決標金額）
得標金額級距分布
得標分單位
最常得標的機關是 國立成功大學（15 案）
- 國立成功大學15 案 · 2,177 萬
- 台灣中油股份有限公司10 案 · 845 萬
- 9 案 · 4,065 萬
- 國立中山大學7 案 · 2,300 萬
- 國立臺灣大學7 案 · 929 萬
- 國立交通大學6 案 · 1,657 萬
- 行政院原子能委員會核能研究所6 案 · 1,813 萬
- 5 案 · 2,598 萬
- 私立元智大學4 案 · 69 萬
- 國立臺北科技大學3 案
- 國立中正大學2 案
- 私立長庚大學2 案 · 198 萬
得標紀錄
全部共 102 筆，第 2/4 頁
已決標 2022/06/01
鋰金屬蒸鍍機串聯手套箱系統壹式 713 萬決標金額
已決標 2022/05/05
光電工程系高真空系統模組1組 245 萬決標金額
已決標 2022/02/18
超高真空濺鍍系統 已決標 2022/01/18
濺鍍系統零件升級 已決標 2021/12/15
反應式共濺鍍薄膜沉積系統 522 萬決標金額
已決標 2021/12/09
冷燒結製程電動壓合機一式 已決標 2021/12/08
具備自動傳輸功能之多腔體超高真空濺鍍系統 已決標 2021/12/01
濺鍍傳輸結合離子源清潔真空系統 已決標 2021/11/18
氣相沉積系統 已決標 2021/11/08
高真空濺鍍系統 已決標 2021/09/15
超高真空磁控濺鍍機一套 已決標 2021/07/22
高真空熱蒸鍍系統 詳規範110A001 共1ST 94 萬決標金額
已決標 2021/07/14
高真空多功能磁控濺鍍系統壹組 437 萬決標金額
已決標 2021/05/19
高真空有機蒸鍍機系統壹套 已決標 2020/12/17
超高真空磁控濺鍍系統 1,153 萬決標金額
已決標 2020/12/10
原子層氣相沈積系統擴充升級一式 已決標 2020/11/18
高真空熱蒸鍍系統設備 170 萬決標金額
已決標 2020/10/23
高溫爐(高溫烘箱)壹台 48 萬決標金額
已決標 2020/10/22
管狀上掀式高溫爐 已決標 2020/07/29
真空碲化製程設備系統壹套 140 萬決標金額
已決標 2020/06/11
高能超光譜材料表面成像系統 已決標 2020/04/08
射頻電漿電源1套 已決標 2020/03/09
電容式真空計及控壓裝置1組 已決標 2020/02/26
高真空濺鍍系統之功能升級壹套 已決標 2019/12/11
原子層氣相沈積系統擴充升級一式 已決標 2019/12/10
二維材料沉積系統1台 已決標 2019/11/28
1吋水平式爐管系統壹組 已決標 2019/11/06
高真空濺鍍系統一組 已決標 2019/05/08
高真空濺鍍系統壹套 已決標 2018/10/31
高真空濺鍍系統1組採購案