大面積高真空鍍膜設備
中央研究院辦理「大面積高真空鍍膜設備」已於 2024/09/10 決標，決標金額 13,500,000 元（約 1,350 萬），得標廠商為高敦科技股份有限公司。
決標結果
| 公告類型 | 決標公告 |
|---|---|
| 公告日期 | 2024/09/18 |
| 決標日期 | 2024/09/10 |
| 招標機關 | 中央研究院 |
| 標案編號 | 113000331 |
| 預算金額 | — |
| 底價金額 | 13,500,000 元 |
| 總決標金額 | 13,500,000 元（約 1,350 萬） |
| 投標家數 | 1 家（僅一家投標） |
投標廠商
| 廠商 | 結果 | 決標金額 |
|---|---|---|
| 高敦科技股份有限公司公司資料↗ | 得標 | 13,500,000 元 |
標案歷程（本案各階段公告）
- 2024/07/24 公開招標公告
- 2024/08/30 無法決標公告
- 2024/09/02 公開招標公告
- 2024/09/18 決標公告 13,500,000 元
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