高
高敦科技股份有限公司
1.8 億
累計得標金額
95
得標案數
2026
最近得標
高敦科技股份有限公司 在2015–2026 年間共得標 95 案，合計決標金額 1.8 億。
競爭力分析
102
投標次數
95
得標次數
93%
得標率
歷年得標（決標金額）
得標金額級距分布
得標分單位
最常得標的機關是 國立成功大學（15 案）
- 國立成功大學15 案 · 2,177 萬
- 台灣中油股份有限公司10 案 · 845 萬
- 9 案 · 4,065 萬
- 國立中山大學7 案 · 2,300 萬
- 國立臺灣大學7 案 · 1,734 萬
- 國立交通大學6 案 · 1,657 萬
- 行政院原子能委員會核能研究所6 案 · 1,813 萬
- 5 案 · 2,598 萬
- 私立元智大學4 案 · 69 萬
- 國立臺北科技大學3 案
- 國立中正大學2 案
- 私立長庚大學2 案 · 198 萬
得標紀錄
全部共 102 筆，第 3/4 頁
已決標 2018/09/11
高真空共濺鍍暨傳輸設備系統一套 已決標 2018/08/23
多源濺鍍系統 303 萬決標金額
已決標 2018/07/27
氣體質量流量控制系統一批 15 萬決標金額
已決標 2018/07/27
多腔式真空鍍膜設備擴充 已決標 2018/07/18
DPF真空系統與DPF真空脈衝放電腔體採購 153 萬決標金額
已決標 2018/07/12
分子幫浦壹台 已決標 2018/06/06
高真空鍍膜系統一套 1,484 萬決標金額
已決標 2018/03/09
高真空蒸鍍設備系統製作 295 萬決標金額
已決標 2017/12/08
射頻電漿電源產生器及自動阻抗匹配器 已決標 2017/11/22
電子槍蒸鍍系統 詳規範 共1ST 已決標 2017/10/27
電漿化學氣相沉積系統一套 已決標 2017/09/22
脈衝功率系統實驗真空腔壹組 已決標 2017/09/20
1060942 已決標 2017/06/28
多腔式真空鍍膜設備製作 1,365 萬決標金額
已決標 2017/05/04
均流盤溫控模組(廠牌：KAODUEN) 一批 已決標 2017/04/27
數位網絡匹配器 14 萬決標金額
已決標 2017/03/16
RF射頻電漿控制模組 30 萬決標金額
已決標 2017/03/10
管型爐 一批 已決標 2016/12/05
高密度電漿共濺鍍用真空暨控制整合系統 110 萬決標金額
已決標 2016/11/09
超高真空濺鍍設備 已決標 2016/10/11
「電漿真空腔體」財物採購 已決標 2016/10/05
「射頻電源供應器」財物採購案 30 萬決標金額
已決標 2016/10/03
物理氣相鍍膜機1台 119 萬決標金額
已決標 2016/09/14
材料表面活性處理系統1組 已決標 2016/08/12
奈米感測膜沉積系統 已決標 2016/07/15
MKS控壓系統用真空計(MAKER:MKS) 已決標 2016/07/14
生質熱裂解設備更新 一批 104 萬決標金額
已決標 2016/06/06
電子束蒸鍍機一批 345 萬決標金額
已決標 2016/06/01
基板預載腔體之電漿清洗功能擴充套件 一批 已決標 2016/05/10
熱蒸鍍系統壹套