多腔式真空鍍膜設備製作
行政院原子能委員會核能研究所辦理「多腔式真空鍍膜設備製作」已於 2017/06/19 決標，決標金額 13,645,000 元（約 1,365 萬），得標廠商為高敦科技股份有限公司。
決標結果
本案共 3 家投標。
| 公告類型 | 決標公告 |
|---|---|
| 公告日期 | 2017/06/28 |
| 決標日期 | 2017/06/19 |
| 招標機關 | 行政院原子能委員會核能研究所 |
| 標案編號 | NS1060440 |
| 預算金額 | — |
| 底價金額 | — |
| 總決標金額 | 13,645,000 元（約 1,365 萬） |
| 投標家數 | 3 家（競爭較激烈） |
投標廠商
| 廠商 | 結果 | 決標金額 |
|---|---|---|
| 高敦科技股份有限公司公司資料↗ | 得標 | — |
| 矽碁科技股份有限公司公司資料↗ | 未得標 | — |
| 綠色科技股份有限公司公司資料↗ | 未得標 | — |
標案歷程（本案各階段公告）
- 2017/04/13 公開招標公告
- 2017/05/10 公開招標更正公告
- 2017/06/28 決標公告 13,645,000 元
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