赫
赫普真空科技股份有限公司
367 萬
累計得標金額
1
得標案數
2017
最近得標
赫普真空科技股份有限公司 在2017 年間共得標 1 案，合計決標金額 367 萬。
競爭力分析
6
投標次數
1
得標次數
17%
得標率
得標金額級距分布
得標分單位
最常得標的機關是 國立臺灣大學（1 案）
- 國立臺灣大學1 案 · 367 萬
得標紀錄
全部共 6 筆
已決標 2023/11/08
高溫熱處理爐(精密真空感應熔煉爐)壹組 338 萬決標金額
已決標 2022/07/20
微型真空環境模擬系統採購 已決標 2017/06/22
感應電爐一台 80 萬決標金額
已決標 2017/03/09
真空感應熔解爐 367 萬決標金額
已決標 2017/03/08
高溫高真空製程設備與防護具 150 萬決標金額
已決標 2015/08/06
真空熔煉爐一套 127 萬決標金額