超高真空金屬與氧化物薄膜濺鍍系統暨高準直性乾式蝕刻系統一套
中央研究院辦理「超高真空金屬與氧化物薄膜濺鍍系統暨高準直性乾式蝕刻系統一套」已於 2024/02/27 決標。
決標結果
得標廠商—
決標金額未公開
決標日期2024/02/27
預算金額—
| 公告類型 | 無法決標公告 |
|---|---|
| 公告日期 | 2024/02/27 |
| 招標機關 | 中央研究院 |
| 標案編號 | 112002763 |
| 預算金額 | — |
| 底價金額 | — |
| 總決標金額 | 未公開 |
標案歷程（本案各階段公告）
- 2023/12/26 公開招標公告
- 2024/01/19 公開招標更正公告
- 2024/01/26 無法決標公告
- 2024/01/26 公開招標公告
- 2024/02/02 無法決標公告
- 2024/02/06 公開招標公告
- 2024/02/27 無法決標公告
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